Plasma enhanced chemical vapor deposition of n-heptane and methyl methacrylat for potential cell alignment applications
| Author: | Annina Steinbach, Andrea Tautzenberger, Andreas Schaller, Andreas Kalytta-Mewes, Sebastian Tränkle, Anita Ignatius, Dirk VolkmerORCiDGND |
|---|---|
| Frontdoor URL | https://opus.bibliothek.uni-augsburg.de/opus4/57273 |
| ISSN: | 1944-8244OPAC |
| Parent Title (English): | ACS Applied Materials & Interfaces |
| Publisher: | American Chemical Society (ACS) |
| Place of publication: | Washington, DC. |
| Type: | Article |
| Language: | English |
| Year of first Publication: | 2012 |
| Release Date: | 2019/07/02 |
| Volume: | 4 |
| Issue: | 10 |
| First Page: | 5196 |
| Last Page: | 5203 |
| DOI: | https://doi.org/10.1021/am301124b |
| Institutes: | Mathematisch-Naturwissenschaftlich-Technische Fakultät |
| Mathematisch-Naturwissenschaftlich-Technische Fakultät / Institut für Physik | |
| Mathematisch-Naturwissenschaftlich-Technische Fakultät / Institut für Physik / Lehrstuhl für Festkörperchemie |
