Formation of silicon carbide and amorphous carbon films by pulse baising silicon to a high voltage in a methane electron cyclotron resonance microwave plasma
| Author: | Kerstin VolzGND, Wolfgang EnsingerORCiDGND, Wolfgang ReiberGND, Bernd RauschenbachORCiD, Bernd StritzkerGND |
|---|---|
| Frontdoor URL | https://opus.bibliothek.uni-augsburg.de/opus4/25887 |
| Parent Title (English): | JMR - Journal of Materials Research |
| Publisher: | Cambridge University Press |
| Place of publication: | Cambridge |
| Type: | Article |
| Language: | English |
| Year of first Publication: | 1998 |
| Publishing Institution: | Universität Augsburg |
| Release Date: | 2017/07/21 |
| Volume: | 13 |
| Issue: | 7 |
| First Page: | 1765 |
| Last Page: | 1768 |
| DOI: | https://doi.org/10.1557/JMR.1998.0248 |
| Institutes: | Mathematisch-Naturwissenschaftlich-Technische Fakultät |
| Mathematisch-Naturwissenschaftlich-Technische Fakultät / Institut für Physik | |
| Mathematisch-Naturwissenschaftlich-Technische Fakultät / Institut für Physik / Lehrstuhl für Experimentalphysik IV |
