Limitations of the process window for the bias enhanced nucleation of heteroepitaxial diamond films on silicon in the time domain
| Author: | Matthias SchreckORCiDGND, K.-H. Thürer, Bernd StritzkerGND |
|---|---|
| Frontdoor URL | https://opus.bibliothek.uni-augsburg.de/opus4/66419 |
| ISSN: | 0021-8979OPAC |
| ISSN: | 1089-7550OPAC |
| Parent Title (English): | Journal of Applied Physics |
| Publisher: | AIP Publishing |
| Place of publication: | Melville, NY |
| Type: | Article |
| Language: | English |
| Year of first Publication: | 1997 |
| Publishing Institution: | Universität Augsburg |
| Release Date: | 2019/12/09 |
| Volume: | 81 |
| Issue: | 7 |
| First Page: | 3092 |
| Last Page: | 3095 |
| DOI: | https://doi.org/10.1063/1.364319 |
| Institutes: | Mathematisch-Naturwissenschaftlich-Technische Fakultät |
| Mathematisch-Naturwissenschaftlich-Technische Fakultät / Institut für Physik | |
| Mathematisch-Naturwissenschaftlich-Technische Fakultät / Institut für Physik / Lehrstuhl für Experimentalphysik IV |
