Plasma enhanced chemical vapor deposition of n-heptane and methyl methacrylat for potential cell alignment applications
Author: | Annina Steinbach, Andrea Tautzenberger, Andreas Schaller, Andreas Kalytta-Mewes, Sebastian Tränkle, Anita Ignatius, Dirk VolkmerORCiDGND |
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Frontdoor URL | https://opus.bibliothek.uni-augsburg.de/opus4/57273 |
ISSN: | 1944-8244OPAC |
Parent Title (English): | ACS Applied Materials & Interfaces |
Publisher: | American Chemical Society (ACS) |
Place of publication: | Washington, DC. |
Type: | Article |
Language: | English |
Year of first Publication: | 2012 |
Release Date: | 2019/07/02 |
Volume: | 4 |
Issue: | 10 |
First Page: | 5196 |
Last Page: | 5203 |
DOI: | https://doi.org/10.1021/am301124b |
Institutes: | Mathematisch-Naturwissenschaftlich-Technische Fakultät |
Mathematisch-Naturwissenschaftlich-Technische Fakultät / Institut für Physik | |
Mathematisch-Naturwissenschaftlich-Technische Fakultät / Institut für Physik / Lehrstuhl für Festkörperchemie |